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平成25年度 横浜市中小企業新技術・新製品開発促進助成(重点枠環境分野)対象事業

最終更新日 2019年2月19日

重点枠環境分野

1.超微細気泡による水環境の広域改善
1.超微細気泡による水環境の広域改善
企業名株式会社安斉管鉄
URL:http://anzaimcs.com/(外部サイト)
概要広域に空気を液中に気泡として送り込む事により、水中の微生物が活発になり底に住む生物達に酸素を供給する事ができる。低質の改善を行う事で微生物がヘドロを栄養として消費することができる。
助成区分開発(2か年開発2年目)
2.光波長多重センシングシステムの環境分野への適用
2.光波長多重センシングシステムの環境分野への適用
企業名株式会社信光社
URL:http://www.shinkosha.com/(外部サイト)
概要光ファイバセンサを波長多重技術を利用して、フィールドのデータ通信に使われている光ファイバへ接続し、環境分野で必要な情報を広域からリアルタイムで収集するシステムを開発する。
助成区分開発(1か年開発)
3.パワエレ用次世代開発システムの開発
3.パワエレ用次世代開発システムの開発
企業名Mywayプラス株式会社
URL:http://www.myway.co.jp/(外部サイト)
概要次世代パワーデバイスの駆動手法を確立し、従来比10倍の高速駆動が可能な開発システムを開発する。試作後に顧客の意見を反映し、コスト削減も行うことで普及を加速させ、環境分野の市場拡大に貢献する。
助成区分研究
4.小型電動モビリティ向け超小型・高耐熱SiCパワーモジュールの開発
4.小型電動モビリティ向け超小型・高耐熱SiCパワーモジュールの開発
企業名マイクロモジュールテクノロジー株式会社
URL:http://www.micro-module.co.jp/(外部サイト)
概要2011年から基礎開発を進めてきたモータ制御用高耐熱SiCパワーモジュールを新たな三次元構造によって超小型化を図り、小型化ニーズが高い電力変換装置向けに超小型SiCパワーモジュールを開発する。
助成区分開発(2か年開発1年目)
5.スプレードライ法によるメッキ排水のナノ粒子化装置の開発
5.スプレードライ法によるメッキ排水のナノ粒子化装置の開発
企業名株式会社ヤマヨ
URL:http://www.yamayo.org(外部サイト)
概要スプレードライ法を使いメッキ排水をナノ粒子化(粉体化)することにより、重金属や有害物質を取り除く。また、下水放流がなくなるため、下水処理場の負担を減らすことができる。
助成区分開発(2か年開発2年目)
6.大型風力発電機ナセル搭載型円錐スキャン式ドップラーライダーの導入
6.大型風力発電機ナセル搭載型円錐スキャン式ドップラーライダーの導入
企業名インタードメイン株式会社
URL:http://www.enecafe.com/(外部サイト)
概要風力発電機に向かってくる風を、鉛直風速分布を含め、予め前方で把握するための、レーザー前方円錐スキャン式のナセル搭載型ドップラーライダーを導入し、英メーカーからの技術指導を受ける。
助成区分技術導入
7.系統連系型フィットネスマシン発電技術の導入
7.系統連系型フィットネスマシン発電技術の導入
企業名インタードメイン株式会社
URL:http://www.enecafe.com/(外部サイト)
概要公共施設やスポーツクラブで汗を流す人々の運動を電力に換えて、新たな環境エネルギーを創造すると同時に、発電情報を集約し処理・配信する仕組みを作り、運動を通して健康へのインセンティブを掘り起こす戦略製品のための基礎技術を導入する。
助成区分技術導入
8.高速道路巡回車向け整流板の改良設計開発に向けた技術指導導入
8.高速道路巡回車向け整流板の改良設計開発に向けた技術指導導入
企業名株式会社TEZZO
URL:http://www.tezzo.jp/(外部サイト)
概要自社で開発した高速道路巡回車向け整流板に対し、更なる燃費向上の為に現行品から更に空気抵抗及び重量を低減できる形状の整流板の新規開発に向けて、空気抵抗の低減に関する有識者に技術指導を受ける。
助成区分技術導入
9.UVスクリーン印刷技術の導入
9.UVスクリーン印刷技術の導入
企業名株式会社フジテックス
URL:http://www.fjtex.co.jp/(外部サイト)
概要環境にやさしい印刷物を製造するためにUVスクリーン印刷技術を導入する。UV印刷での問題点である金属塗装表面への密着と屋外での耐候性を改善するためにUV硬化乾燥設備を導入する。
助成区分技術導入

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電話:045-671-3490

電話:045-671-3490

ファクス:045-664-4867

メールアドレス:ke-mono@city.yokohama.jp

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